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碳化硅 超细碳化硅粉99% 金刚砂 了解更多 试剂采购 409-21-2

发布:2024-10-04 09:40,更新:2024-10-04 09:40
化学式CSi
分子量40.1
InChIInChI=1/C.Si/q+4;-4
InChIKeyHBMJWWW-N
密度3.22 g/mL at 25 °C (lit.)
熔点2700 °C (lit.)
沸点2700℃
水溶性Soluble in molten alkalis (NaOH, KOH) and molten iron. Insoluble in water.
溶解度溶于熔融氢氧化钠、氢氧化钾和铁水。
折射率2.6500
存储条件Room Temprature
稳定性稳定性
敏感性1: no significant reaction with aqueous systems
外观纳米粉末
比重3.22
颜色Green
Merck14,8492
暴露限值ACGIH: TWA 10 mg/m3; TWA 3 mg/m3; TWA 0.1 fiber/cm3OSHA: TWA 15 mg/m3; TWA 5 mg/m3NIOSH: TWA 10 mg/m3; TWA 5 mg/m3
物化性质浅黄色透明正方晶系晶体。熔点2700℃。相对密度3.217。溶于融熔的氢氧化钾中,不溶于冷、热水及酸。晶体结构规整,具有良好的化学惰性,对氧化和热波动有很好的承受力。具有低的膨胀系数和较高的传热系数。实验证明,在2300℃高温,碳化硅固体表面气相中含自由硅仅5%。并具高硬度及半导体性。
409-21-2 - 简介

碳化硅是一种无机化合物。以下是关于碳化硅的性质、用途、制法和安全信息的介绍:

性质:
2. 它具有较高的化学稳定性,能够耐受高温和腐蚀。
3. 碳化硅的导电性较高,可以用作半导体材料。

用途:
1. 碳化硅的高耐热性和化学稳定性,它常被用作高温结构材料,例如高温炉管、炉垫和砂轮等。
2. 碳化硅在电子行业中应用广泛,如制造高功率半导体器件、集成电路和光电子元件等。
3. 它也被用作陶瓷工艺中的辅助材料,例如制作陶瓷模具和陶瓷喷嘴。

制法:
1. 碳化硅的制备通常通过化学气相沉积法、碳热还原法和熔融法等进行。
2. 化学气相沉积法通常是通过将硅源和碳源在高温下作用,生成沉积在基底上的碳化硅薄膜。
3. 碳热还原法是将硅粉和结合碳源的石墨混合,加热至高温下进行反应,生成成品的碳化硅。

安全信息:
1. 碳化硅在常温下对人体无毒,但在高温下可能产生刺激性气体。
2. 在操作过程中应避免接触皮肤和眼睛,必要时应佩戴个人防护设备。
3. 避免与酸、碱等化学物质接触,以免引起危险反应。


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